光刻机是谁发明的

光刻机是谁发明的

光刻机是谁发明的图1

法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早,但并没有在各行业领域之中被使用,直到第2次世界大战时,该技术应用于印刷电路板,所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别,在塑料板上通过铜线路制作,让电路板得以普及,短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。

A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

B半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

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